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顯微鏡,激光共聚焦,電鏡,x射線,激光捕獲顯微切割,熒光成像系統,DNA/RNA合成儀,半導體行業儀器設備,生命科學儀器,光刻機,

電漿輔助式化學氣相沉積設備
產品型號:
更新時間:2025-10-20
電漿輔助式化學氣相沉積設備(PECVD)是一種使用電漿的化學氣相沉積(CVD)技術,可為沉積反應提供一些能量。與傳統的CVD方法相比,PECVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。

電漿輔助式化學氣相沉積設備PECVD比半導體行業中的其他CVD技術更廣泛地使用,且可以在較低的工作溫度(低於350°C)下沉積薄膜,並具有不同形狀的均勻沉積與良好的覆蓋率。SYSKEY的系統可以精準的控制製程氣體與監控其數據(壓力、載臺溫度),並提供高品質的薄膜。

我們也開發不同機器但共用零組件,以達到節省成本。
| 應用領域 | 腔體 |
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| 配置和優點 | 選件 |
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